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实施例2中采用的是含氯离子的PC-420(PC-420是台湾清英实业生产的一种含铁离子的蚀刻剂)，在25条件下（我不清楚25是什么），将lOZ厚度的铜箔放入微蚀剂中浸30秒，进行铜表面糙化作业。之后，再放入成分为4%甲基氨基磺酸、5%过硫酸钾、ABLUMIDE、0.01%LDE（台界化学工业生产的表面活性剂）、其余为非离子水的促粘剂中浸10秒，继续铜表面的糙化作业。糙化后的铜表面在电子显微镜下如图2所示。测得表面粗糙度为0. 7Ra／Rz，最后将得到的铜箔与2 1 1 6HR薄膜及内层板加热加压制成多层板，对其进行抗张力度试验，得到的试验值为8. 5lb／in。

实施例2中,除去氯离子含有pc - 420(pc - 420,是台湾的清英実工作
铁离子的方法)采用了25,loz厚的铜箔微米剂泡30秒内铜表面草化前处理,之后,成分(二十二碳六烯酸)
acid),sulfamic methyl过,ablumide 5%,钾硫酸lde(台界化学工业的界
面活性剂的商品名)为6.01%、剩下的非离子的粘和剂泡了10秒内,
铜表面草化工程,铜表的粗糙,用电子显微镜看的图2进行表示。表
面双重作用0.7 ra /从今量,最后得到一和2铜箔层板内及胶片hr 6
甚至热加加多层板形成、抗张力度方式获得包括测试值为8.5%
lb / in。